Wafer Probe Card 열변형 및 밀림현상 해석

NFX STR 전자전기 열전달해석, 열응력해석, 선형정적해석

해석배경

 

Probe Card는 전자 테스트 시스템과 반도체 웨이퍼 사이의 인터페이스로 인쇄 회로 기판(PCB)과 일부 형태의 접촉 요소로 구성됩니다. Probe Card는 Wafer Prober에 삽입되며, 그 내부에서 Prober Wafer 사이에 접촉에 정확하게 이루어지도록 Wafer의 위치를 조정하며 실험을 진행합니다. 이때  Probe Card의 효율은 Probe Card와 Wafer사이의 접촉부를 변형 시킬 수 있는 여러 요인 중 온도로 인한 변형과 이로 웨이퍼의 밀림현상 중점으로 분석합니다.

해석목적

 

•  Wafer Probe Card의 열변형 평가 및 정밀도 확보
•  Wafer의 밀림현상 해석

 

해석배경이미지-7 해석배경이미지2

Wafer Probe Card 및 Wafer 이미지




해석모델 및 해석조건

 

Wafer Probe Card 해석

 

•  절점온도 : 90℃
•  외기온도 : 20℃
•  자연대류 경계조건 적용
•  하중조건 :
   - 각 Hole에 10g 하중적용
   - 전체 절점에 대하여 각 절점의 온도하중 적용

 

36. 37.

Wafer Probe Card의 CAD 모델(좌) - FE모델 (우)

 

Wafer 선형정적해석

 

38.

 

해석결과

 

Wafer Probe Card 열응력/열전달해석

 

해석결과1-873 해석결과2-73

Wafer Probe Card의 온도분포

 

해석결과3-5 해석결과4-512

Wafer Probe Card의 응력분포

 

Wafer 선형정적해석

 

해석결과5-2 해석결과6

수평변위의 변위 분포(좌) - 응력 분포(우)

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